Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Отраслевые решения регулятор расхода пара и другое оборудование для контроля использования пара .Континент - оперативное таможенное оформление

Кристаллизация металла


нным лучом широко используют для получения тонких пленок. В отличие от других способов испарения, где энергия подводится к испаряемой поверхности через стенку тигля или высокотемпературный нагревательный элемент, при электроннолучевом испарении осуществляется прямой нагрев поверхности испаряемого материала. Это позволяет испарять материалы из водоохлаждаемых тиглей, что особенно важно при работе с химически активными и тугоплавкими материалами. Испарение материала из охлаждаемого тигля дает возможность получать покрытия высокой чистоты, поскольку при этом почти полностью исключается реакция испаряемого материала с материалом тигля, а материал тигля и продукты реакций практически не испаряются.
Важно отметить, что при электроннолучевом испарении удается управлять электронным пучком в пространстве и во времени, регулируя тем самым интенсивность ввода энергии в испаряемое вещество, а следовательно, скорость испарения и распределение плотности потоков пара.
Для процесса испарения

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info