Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Степень ионизации


смеси.
§ 1.4. Энтальпия плазмы
Энтальпия плазмы является важной энергетической характеристикой плазменной струи и зависит как от температуры, так и от рода применяемого плазмообразующего газа. Как видно из графика на рис. VI.4, энтальпия Я моноатомных газов увеличивается с повышением температуры благодаря повышению энергии теплового движения атомов газа и их ионизации. У молекулярных газов в процессе нагрева энтальпия даже при сравнительно невысоких температурах резко возрастает за счет процесса диссоциации, а затем уже начинается повышение энтальпии за счет ионизации. Поэтому для технологических процессов, когда не нужны очень высокие температуры (свыше 104К), в качестве плазмооб-разующих газов целесообразно использовать азот, водород, кислород, воздух. Для получения более высоких температур необходимо применять плазму одноатомных газов (аргона, гелия).
На энтальпию плазменного потока сильно влияет расход плазмооб

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   


© 2007 Познавай.info