Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Степень ионизации


и нагреве плазмой деталей передача энергии может осуществляться или только за счег процессов теплообмена нагретого газа с твердой или жидкой фазой (деталь электрически не связана с источником питания), или за счет суммарного действия теплообмена и электрического взаимодействия заряженных частиц плазмы с электродом-заготовкой. В последнем случае эффективность нагрева, как правило, выше, но деталь должна быть электропроводной и ее Необходимо включать в цепь источника питания плазмотрона.
В связи с этим в практике плазменной технологии сложилось три основных принципиальных схемы плазмотронов. В двух схемах (рис. VI.5, а, б) для получения плазмы используется электрический дуговой разряд; в схеме, изображенной па рис. VI.5, в, нагрев газа и образование плазмы осуществляются за счет безэлектродного высокочасто!ного индукционного разряда.
Схема, изображенная на рис. VI.5, а, получила название плазменной дуги, а плазмотрон для ее получения — плазмотрон прямого действия. Если изделие

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   


© 2007 Познавай.info