Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Степень ионизации


/ гальванически не связано с обрабатываемой деталью (рис. VI.5, б), то схема называется плазменной струей, а плазмотрон носит название плазмотрона косвенного действия.
Известны комбинированные схемы включения изделия в цепь плазмотрона (плазменная струя и токоведущее изделие) и комбинированные способы передачи энергии плазмообразующему газу (химическая энергия сгорания топлива и электрическая энергия дугового или высокочастотного разряда).
§ 1.6. Характеристики плазменного источника
Основными характеристиками плазменного источника энергии являются его эффективная тепловая мощность, определяющая отношение количества теплоты, вводимой в основной металл, ко времени, и коэффициент сосредоточенности, определяющий распределение удельного теплового потока по поверхности обрабатываемого изделия.
Для плазменной дуги эффективная тепловая мощность
где U— напряжение дуги; / — сила тока дуги; ци — эффективный КПД процесса плазменного нагрева, учитывающий потери энергии при

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   


© 2007 Познавай.info