Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Степень ионизации


передаче ее к изделию.
При использовании в качестве источника энергии плазменной струи часть энергии дополнительно расходуется на нагрев анода-сспла. В этом случае значение величины цш меньше. С энергетической точки зрения рациональнее использовать плазменную дугу.
Высокочастотные плазмотроны, как правило, имеют худшие энергетические характеристики по сравнению с дуговыми и соответственно значительно меньшее значение эффективного КПД т]и.
Распределения температуры двух вариантов I я II плазменной дуги (рис. VI.6, а) и плазменной струи (рис. VI.6, б) по радиусу г и по длине / крайне неравномерны. Максимальная температура наблюдается в центре на оси плазменного потока, причем она значительно выше, чем у от крытой дуги. Плотность теплового потока для плазменных источников энергии также выше, чем для открытой дуги, и достигает 10в Вт/см2.
При нагреве в потоке плазмы мелкодисперсных частиц из-за малого времени взаимодействия частицы с плазмой эффективный КПД нагрева обыч

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   


© 2007 Познавай.info