Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Виды плазменной резки


но несколькими плазмотронами.
Зачищенная плазменной строжкой поверхность слитка не требует дополнительной обработки.
ГЛАВА 3. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ
§ 3.1. Общие требования
В зависимости от назначения, от решаемых технологических задач плазменная установка обеспечивает получение плазменного потока с заданными параметрами. Мощность, КПД, масса и другие характеристики плазменных установок могут быть различными, однако любая плазменная установка состоит из следующих основных систем и устройств: 1] плазмотрона — основного рабочего органа, служащего для создания высокотемпературного плазменного потока с высокой концентрацией энергии; 2) источника питания плазмотрона с системами регулировки режима, контроля и управления работой установки; 3) систем подачи газа в плазмотрон и различных материалов в рабочую зону; 4) систем охлаждения плазмотрона и источника питания.
Рассматривая различные виды плазмотронов и источников питания, можно сформулир

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info