Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Системы электропитания


я такие источники серийно выпускаются промышленностью.
Для создания стабильного дугового разряда в плазмотроне источник питания должен иметь падающие вольт-амперные характеристики. Наилучшей в этом случае является крутопадающая («штыковая») характеристика, которая обеспечивает неизменность режима по току даже в случае колебаний длины дугового промежутка. Переход с одной характеристики на другую связан с изменением режима процесса по току и осуществляется оператором.
Формирование вольт-амперной характеристики источника питания может осуществляться различными способами.
1. Использование дросселей насыщения. Эта схема отличается простотой, надежностью в эксплуатации и широким диапазоном регулирования, но имеет низкий КПД, высокую инерционность системы управления. Кроме того, такие источники велики по габаритам, тяжелы и дорогостоящи.
2. Применение магнитоуправляемых трансформаторов. В этой схеме удается получить плавный и достаточно широкий диапазон регулирования,

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info