Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Системы электропитания


У
Некоторым недостатком данной схемы является ограниченный диапазон регулирования, а также инерционность управления, связанная со спецификой работы тиристоров.
4. Применение параметрических источников тока. Для этого типа источников характерно использование пассивных индуктивно-емкостных элементов, имеющих, как правило, значительную массу, большие габариты и высокую стоимость. Параметрические источники тока имеют широкий диапазон регулирования силы тока, обеспечивают ее хорошую стабилизацию (не хуже 3%), слабо реагируют на форму напряжения питающей сети.
Разновидностью параметрического источника питания является источник, использующий в качестве активных регулирующих элементов мощные транзисторы. Однако параметры транзисторов ограничивают предельную силу тока источника (обычно не более 100 А) и напряжение на дуге (до 40...50 В), что значительно сужает область его применения.
Источники питания для ВЧ плазменных установок, как правило, выполнены на ламп

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info