Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Нужны весы? Электронные и недорогие железнодорожные весы - монтаж от ЭталонКонтинент - оперативное таможенное оформление

Системы электропитания


ах и работают в диапазоне 1...5 МГц. Они сложны по устройству, требуют специальных мер для защиты от высокого напряжения, электромагнитного поля и радиопомех. Их КПД ниже, чем у источников для дуговых плазменных установок.
§ 3.3. Системы газопитания и охлаждения
Газопитание плазменных устройств осуществляется обычно от баллонов со сжатым газом через системы редукторов. Рабочее давление плазмообразующего газа, подводимого к плазмотрону, обычно не превышает 0.6...0,8 МПа, а расход составляет 0,5...5 м3/ч в зависимости от назначения процесса и его энергетического режима. При использовании в качестве плазмообразующего газа воздуха, например при плазменной резке, газопитание может производиться от общезаводской сеги, но с дополнительной очисткой воздуха от влаги и масла.
Кроме плазмообразующиг газов в плазменных процессах могут применяться газы для защиты зоны нагрева (аргон, гелий, водород) и газы для охлаждения плазмотрона (воздух, азот, углекислый газ).
Специфика плаз

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info