Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Оборудование для электронно лучевой обработки


ктронной пушке необходимого вакуума. Давление в зоне взаимодействия электронного луча с обрабатываемым изделием в зависимости от вида технологического процесса обычно составляет КН ... Ю-4 Па (при сварке иногда электронный луч выводят в атмосферу). В электронной пушке, где происходит ускорение электронов, вакуум должен быть не хуже 10~3 Па — в противном случае может произойти пробой между электродами. Учитывая, что вакуумная камера в отличие от электронных приборов не может быть абсолютно герметичной, а также что многие технологические процессы (плавка, сварка) связаны с большим газовыделением, вакуумная система должна функционировать в течение всего процесса обработки, причем скорость откачки может достигать нескольких тысяч литров в секунду.
На рис. IV. 16, а приведена наиболее распространенная схема вакуумной системы, позволяющая получать вакуум до 10~4 Па. Она состоит из механического-форвакуумного насоса / и высоковакуумного паромасляного агрегата с диффузионным насосом 2. Ва

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   


© 2007 Познавай.info