Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


Континент - оперативное таможенное оформление

Пушка вакуумной системы


тания фокусирующей и отклоняющей систем

На рис. IV.21 представлена функциональная схема блока пита-зиия электроннолучевой установки. Важным требованием к блоку питания является высокая стабильность ускоряющего напряжения: при изменении напряжения питания на +5...—10% ускоряющее напряжение не должно изменяться больше чем на 0,5... 1%, при этом сила тока электронного пучка изменяется на 0,5%. В серийно выпускаемых источниках питания диапазоны регулирования стабилизированного напряжения и силы тока пучка разбиваются на несколько поддиапазонов, внутри которых можно плавно регулировать эти параметры.
Поддержание заданного значения ускоряющего напряжения производится, например, сведением к минимуму разницы сигналов напряжения на электродах с заданным значением путем регулирования сопротивления магнитного усилителя источника питания.
Сила тока электронного пучка зависит от многих как конструктивных, так и технологических факторов: от ускоряющего напряжения, от парам

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info