Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


простой ремонт квартиры в МосквеКонтинент - оперативное таможенное оформление

Пушка вакуумной системы


На рис. IV. 17 приведен пример одного из наиболее распространенных конструктивных решений пушки. На высоковольтном изоляторе / укреплена юстирующая система 2, которая благодаря сильфонному переходу 3 позволяет изменять положение катодного узла 5 относительно оси корпуса 4 пушки. Это необходимо при совмещении электрических осей фокусирующей магнитной линзы 10 и катушек системы 12 отклонения электронного луча 11 с осью самого электронного луча. Источник электронов — катод 7 подогревается элементом 6, а напряжение, подаваемое на анод 8, задает электронам необходимое ускорение. В процессе работы элементы пушки нагреваются, и в ней предусмотрены каналы 9 и 13 для водяного охлаждения анода 5 и систем 10 и 12 управления лучом.
Котировочное перемещение катодного узла можно производить не только поперек оси, но и вдоль нее и по углу. Объем пушки связан с вакуумной системой.
Для сварки в настоящее время применяют малогабаритные подвижные пушки (рис. IV. 18), которые могут перемещаться

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info