Главная
Кристаллизация металла
Размерная обработка электронным лучом
Оборудование для электронно лучевой обработки
Пушка вакуумной системы
Светолучевая обработка материалов
Когерентное излучение
Схема ОКГ
Полупроводниковые ОКГ
Технология светолучевой обработки материалов
Нетрадиционные способы сварки
Лазерная обработка
Проточный газовый лазер
Степень ионизации
Плавление вещества
Виды плазменной резки
Системы электропитания
Создание сильных магнитных полей
Процессы в разрядной цепи
Характер действия сил
Удельная проводимость


платформенные тележкиКонтинент - оперативное таможенное оформление

Схема ОКГ


Схема твердотельного ОКГ приведена на рис. V.4. Стержень 2, изготовленный из рабочего вещества, помещается между двумя зеркалами 1, 3. Зеркало 1 полностью отражает все падающие на него лучи, а зеркало 3 является полупрозрачным. Для накачки энергии используется газоразрядная лампа-вслышка 4, которая для большей эффективности облучения кристалла помещается вместе с ним внутрь отражающего кожуха 5 с поперечным сечением в форме эллипса. При размещении лампы и кристалла в фокусах эллипса создаются наилучшие условия равномерного освещения кристалла. Питание лампы-вспышки обычно осуществляется от специальной высоковольтной батареи 6 конденсаторов.
Для рубина поглощаемая кристаллом мощность накачки составляет примерно 2 кВт на 1 см3 объема кристалла. Коэффициент использования световой энергии лампы-вспышки составляет 10... 15%, поэтому ее мощность должна составлять десятки, а то и сотни киловатт.
Не вся энергия, поглощенная стержнем, превращается в энергию излучения ОКГ. Значительная

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   


© 2007 Познавай.info